超高純度ガス処理

プロセス説明

 
半導體及び液晶の製造工程では超高純度気體は水素、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウムガス、アンモニアなど各種気體があります。ガス製膜・エッチング・クリーニング等において高純度な半導體材料ガスが使用されます。また、太陽電池の製造工程でも各種の材料・ガスが使用されます。半導體産業で使用されるガスには高い品質が要求され、加えて危険な性質を持つものも少なくありません。
 

問題説明龙8国际

 
自然の中にあるシリコンは、酸素やアルミニウム、マグネシウムなどと結びついているため、シリコン元素の抽出には精錬が必要です。なかでも、IC(集積回路)などの半導體に使われるシリコンでは、「99.999999999%」(イレブン・ナイン)という「超高純度の単結晶構造」が要求されるため、抽出後に各種の製造工程を経て精製されます。Siに含まれる不純物以外に、洗浄に使う水や薬品、ガスに含まれる不純物も、混入すればデバイスの性能を悪化させる原因になるので、これらも非常に高純度のものが使われます。空気中のゴミも半導體デバイスにとっては故障の原因ですのでクリーンルームで製造する必要があります。
 

製品応用龙8国际

 

深度濾過:

ガラス繊維ろ過紙
多孔セラミック
焼結金屬
石綿
フェルト


膜濾過:

金屬孔闆(シルク)
Teflon膜
セラミック

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