半導體制造廢水
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制造废水过滤龙8国际

 

過程簡述龙8国际

 

半導體集成電路是指在半導體基闆上,利用氧 化、蝕刻、擴散等方法,将衆多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等), 進而達成預先設定好的電路功能。半導體的生産工藝要求高,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種複雜工藝,生産半導體的過程會産生大量的廢水, 半導體廢水污染物種類多,成分複雜,通常包括多種重金屬廢水,有機廢水以及矽和氟廢水;同時半導體PCW系統的制程冷卻水須過濾處理以回用(見水處理應 用)。

 

清洗工藝及廢水來源

 

工藝

清潔源

容器

清潔效果

剝離光刻膠

氧等離子體

平闆反應器

刻蝕膠

去聚合物

硫酸:水=6:1

溶液槽

除去有機物

去自然氧化層

氟化氫:水<1:50

溶液槽

産生無氧表面

旋轉甩幹

氮氣

甩幹機

無任殘留物

RCA1#(堿性)

氫氧化铵:過氧化氫:水=1:1:1.5

溶液槽

除去表面顆粒

RCA2#(堿性)

氯化氫:過氧化氫:水=1:1:5

溶液槽

除去重金屬粒子

DI清洗

去離子水

溶液槽

除去清洗溶劑

 

問題描述

 

 

産品應用龙8国际

 

 

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